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寶鄂文庫

硅光電池有哪些種類?

來源:寶鄂實業(yè)    2020-01-16 14:38    點擊量:
晶體硅光電池

晶體硅光電池有單晶硅與多晶硅兩大類,用p型(或n型)硅襯底,通過磷(或硼)擴散形成pn結(jié)而制作成的,生產(chǎn)技術(shù)成熟,是光伏市場上的主導(dǎo)產(chǎn)品。采用埋層電極、表面鈍化、強化陷光、密柵工藝、優(yōu)化背電極及接觸電極等技術(shù),提高材料中的載流子收集效率,優(yōu)化抗反射膜、凹凸表面、高反射背電極等方式,光電轉(zhuǎn)換效率有較大提高。單晶硅光電池面積有限,目前比較大的為Φ10至20cm的圓片,年產(chǎn)能力46MW/a。目前主要課題是繼續(xù)擴大產(chǎn)業(yè)規(guī)模,開發(fā)帶狀硅光電池技術(shù),提高材料利用率。國際公認最高效率在AM1.5條件下為24%,空間用高質(zhì)量的效率在AM0條件約為13.5?18%,地面用大量生產(chǎn)的在AM1條件下多在11?18%之間。以定向凝固法生長的鑄造多晶硅錠代替單晶硅,可降低成本,但效率較低。優(yōu)化正背電極的銀漿和鋁漿絲網(wǎng)印刷,切磨拋工藝,千方百計進一步降成本,提高效率,大晶粒多晶硅光電池的轉(zhuǎn)換效率最高達18.6%。

非晶硅光電池

a-Si(非晶硅)光電池一般采用高頻輝光放電方法使硅烷氣體分解沉積而成的。由于分解沉積溫度低,可在玻璃、不銹鋼板、陶瓷板、柔性塑料片上沉積約1μm厚的薄膜,易于大面積化(0.5m×1.0m),成本較低,多采用pin結(jié)構(gòu)。為提高效率和改善穩(wěn)定性,有時還制成三層pin等多層疊層式結(jié)構(gòu),或是插入一些過渡層。其商品化產(chǎn)量連續(xù)增長,年產(chǎn)能力45MW/a,10MW生產(chǎn)線已投入生產(chǎn),全球市場用量每月在1千萬片左右,居薄膜電池首位。發(fā)展集成型a-Si光電池組件,激光切割的使用有效面積達90%以上,小面積轉(zhuǎn)換效率提高到14.6%,大面積大量生產(chǎn)的為8-10%,疊層結(jié)構(gòu)的最高效率為21%。研發(fā)動向是改善薄膜特性,精確設(shè)計光電池結(jié)構(gòu)和控制各層厚度,改善各層之間界面狀態(tài),以求得高效率和高穩(wěn)定性。

多晶硅光電池

p-Si(多晶硅,包括微晶)光電池沒有光致衰退效應(yīng),材料質(zhì)量有所下降時也不會導(dǎo)致光電池受影響,是國際上正掀起的前沿性研究熱點。在單晶硅襯底上用液相外延制備的p-Si光電池轉(zhuǎn)換效率為15.3%,經(jīng)減薄襯底,加強陷光等加工,可提高到23.7%,用CVD法制備的轉(zhuǎn)換效率約為12.6-17.3%。采用廉價襯底的p-Si薄膜生長方法有pECVD和熱絲法,或?qū)-Si:H材料膜進行后退火,達到低溫固相晶化,可分別制出效率9.8%和9.2%的無退化電池。微晶硅薄膜生長與a-Si工藝相容,光電性能和穩(wěn)定性很高,研究受到很大重視,但效率僅為7.7%。大面積低溫p-Si膜與-Si組成疊層電池結(jié)構(gòu),是提高a-S光電池穩(wěn)定性和轉(zhuǎn)換效率的重要途徑,可更充分利用太陽光譜,理論計算表明其效率可在28%以上,將使硅基薄膜光電池性能產(chǎn)生突破性進展。銅銦硒光電池

CIS(銅銦硒)薄膜光電池已成為國際光伏界研究開發(fā)的熱門課題,它具有轉(zhuǎn)換效率高(已達到17.7%),性能穩(wěn)定,制造成本低的特點。CIS光電池一般是在玻璃或其它廉價襯底上分別沉積多層膜而構(gòu)成的,厚度可做到2?3μm,吸收層CIS膜對電池性能起著決定性作用。現(xiàn)已開發(fā)出反應(yīng)共蒸法和硒化法(濺射、蒸發(fā)、電沉積等)兩大類多種制備方法,其它外層通常采用真空蒸發(fā)或濺射成膜。阻礙其發(fā)展的原因是工藝重復(fù)性差,高效電池成品率低,材料組分較復(fù)雜,缺乏控制薄膜生長的分析儀器。CIS光電池正受到產(chǎn)業(yè)界重視,一些知名公司意識到它在未來能源市場中的前景和所處地位,積極擴大開發(fā)規(guī)模,著手組建中試線及制造廠。

碲化鎘光電池

CdTe(碲化鎘)也很適合制作薄膜光電池,其理論轉(zhuǎn)換效率達30%,是非常理想的光伏材料??刹捎蒙A法、電沉積、噴涂、絲網(wǎng)印刷等10種較簡便的加工技術(shù),在低襯底溫度下制造出效率12%以上的CdTe光電池,小面積CdTe光電池的國際先進水平光電轉(zhuǎn)換率為15.8%,一些公司正深入研究與產(chǎn)業(yè)化中試,優(yōu)化薄膜制備工藝,提高組件穩(wěn)定性,防范Cd對環(huán)境污染和操作者的健康危害。

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