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寶鄂文庫

鑄造電晶體能提升電池的性能嗎?具體提升空間有多少?

來源:寶鄂實業(yè)    2019-04-28 00:55    點擊量:
用多晶的成本做單晶的效率?

如此高調(diào)的宣布鑄造單晶的回歸,協(xié)鑫這幾年下了不少的功夫。全新的熱場設(shè)計,分段式加熱從而提升對稱性,增加對流,以及增加單晶比例,降低位錯等;全新的籽晶拼接技術(shù)可以避免拼縫產(chǎn)生的位錯;獨創(chuàng)的籽晶回用技術(shù)可以進一步降低成本;硅片晶花分選可以更好的解決組件外觀問題。針對上述四點原因,協(xié)鑫一一攻克。

電池外觀方面,協(xié)鑫方面宣稱,鑫單晶硅片采用金剛線切割,外觀與常規(guī)多晶硅片相似,采取堿制絨后與直拉單晶無明顯差異。另外,通過Hennecke全自動分選線嚴(yán)格控制晶花問題,將單晶面積小于99%的硅片選為三類片,占比約10%。

據(jù)協(xié)鑫集成首席技術(shù)官張淳博士介紹,在2018年9-10月份研發(fā)階段發(fā)現(xiàn),三類片使用堿制絨工藝會有嚴(yán)重的外觀問題,而使用濕法黑硅制絨可以完美解決該問題。

在位錯方面,汪晨表示,“與單晶相比,鑄錠單晶雖然不是非常完美的晶體,但相比多晶的位錯比例大幅下降,從切割后的硅片看已經(jīng)非常接近單晶產(chǎn)品。”

從技術(shù)上來看,位錯會造成少子壽命降低,從而降低電池效率,這也是鑄錠單晶最致命的弱點之一。

但萬躍鵬解釋,鑄造單晶在長晶技術(shù)提升后位錯得到顯著降低,目前鑫單晶72片組件功率輸出以380Wp為主,相比同尺寸同PERC工藝下直拉單晶組件低約5Wp。

據(jù)張淳介紹,經(jīng)過不斷的改進,目前鑫單晶EL降級比例2.29%,前期低檔位中出現(xiàn)明顯EL暗紋的情況現(xiàn)在基本消失,目前主要的缺陷是晶界線,占比1.25%,還有少量不合格絨絲,占比0.05%。

此外,鑄造單晶以衰減小于單晶PERC作為其一大亮點。硅片氧含量<6ppm,顯著低于直拉單晶的12-13ppm,LID和LeTID均低于直拉單晶。不過張淳介紹,鑫單晶的光衰數(shù)據(jù)較多晶相比略差,懷疑主要是鑫單晶峰值燒結(jié)溫度較多晶更高所造成。多晶的LeTID控制已經(jīng)有成熟的產(chǎn)業(yè)化技術(shù),鑫單晶還需進一步優(yōu)化。

而在成本方面,協(xié)鑫方面稱,目前鑄造單晶成本比常規(guī)多晶略高一些,但是比單晶低,未來通過裝料量的逐步提升,以及籽晶回用技術(shù),可以進一步降低鑄造單晶成本,同時規(guī)模化的應(yīng)用也必然導(dǎo)致成本的大規(guī)模降低。

能耗方面,鑄造單晶每公斤電耗比直拉單晶低20多度,轉(zhuǎn)換成每瓦少耗電0.06度。

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